清洗、制冷行業與人們生產和生活實踐密切相關。隨著社會的發展和科技的進步，電子信息行業發展迅猛，人們對電子相關行業提出了更高的要求：精確、穩定、輕巧、可靠等，同時需要提供良好的清洗和降溫條件。電子元器件、精密元件等電子信息產品，他們當然也需要“洗澡”“降暑”，并且對清洗劑和制冷劑提出了更高的要求，如能效高、安全低毒、無污染等，氫氟醚（HFE）系列氟化液堪此重任，對HFE氟化液的研究也成為社會、企業界和學術界關注的熱點。

　　01/ 氟化液的性能

　　HFE氟化液是氫氟醚類的氟溶液，用于鋰電池添加劑、潤滑油的溶劑、反應溶劑、制冷劑、清洗劑等領域。

　　HFE氟化液能夠“擔任”對電子元器件、精密元件等電子信息產品進行清洗和制冷“大任”除了安全環保、低全球暖化潛勢（GWP），還有優異的性能，具體如：

　　安全方面：無毒，不燃、無閃點；

　　環境方面：臭氧消耗潛能值（ODP）為0，低全球暖化潛勢（GWP）系數、大氣壽命短，滿足環保法規的要求，是CFC、HCFC、HFC 和 PFC的最佳替代品之一。

　　性能方面：表面張力低、低粘度；高密度；適中的溶解力；優秀的電氣絕緣性能；優秀的導熱性；不燃、無閃點；熱穩定性、化學穩定性。

　　下面介紹在電子元器件、精密元件等電子信息產品領域，HFE氟化液中的“清洗大將”HFE氟化液D3、“制冷大將”HFE氟化液D4。

　　02/ “清洗大將”—HFE氟化液D3

　　HFE氟化液D3堪擔電子元器件、精密元件等電子信息產品的“清洗大將”，可作為單一純溶劑清洗，也可與碳氫清洗劑結合。

　　作為單一純溶劑進行清洗，具有優秀的干燥性能；優秀的材料兼容性；不具可燃性等。

　　具體應用舉例：CCD、CMOS傳感器等電子設備的除塵（清除顆粒）；半導體生產裝置零件、腔體的清洗；顆粒的擦除清洗；印刷零件壓膜后的清洗。

　　與碳氫清洗劑結合，共溶系統實現了清潔裝置的不燃化，因此可控制著火的危險性；清洗后無殘留，品質更高；干燥時的溫度偏低，對工件的熱沖擊較小；優秀的材料兼容性；表面張力低，可滲透清洗并干燥工件的細微結構。

　　具體應用舉例：液晶模塊、面板的清洗；精密加工零件的硅油清洗、干燥；航空機零件的切削油去除清洗。 

　　03/ “制冷大將”——HFE氟化液D4

　　在冷卻、熱交換控溫用途中，在半導體線寬日益細化的過程中，對用于導熱和控溫的冷媒的要求更高，更多樣化。

　　HFE氟化液D4堪擔電子元器件、精密元件等電子信息產品領域“制冷大將”。可作為半導體等生產裝置冷媒，具有優秀的電氣特性；可選溫度范圍廣；沒有沉淀物；不燃性等。

　　具體應用舉例：干法蝕刻裝置；光刻；離子噴射器；探頭；IC測試器等。